真空氫化爐

一．簡(jiǎn)介：

本爐是在真空狀態(tài)、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應(yīng)器皿中發(fā)生氫化反應(yīng)。

本設(shè)備包括反應(yīng)罐、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安全防護(hù)系統(tǒng)。

二．特點(diǎn)：

1.各個(gè)工藝參數(shù)能在觸摸屏上工況允許的范圍內(nèi)任意設(shè)定。

2.爐料可通過(guò)爐內(nèi)的葉片旋出，還可以傾斜旋轉(zhuǎn)倒出。

3.設(shè)有氫氣綜合報(bào)警裝置，設(shè)備運(yùn)行安全可靠。

4.本HDDR爐適合小批量的生產(chǎn)及研究部門(mén)實(shí)驗(yàn)室用。

三．參數(shù)：

1．最高使用溫度：                  1100℃

2．最高真空度：                     ≤6.67X10-3Pa

3．最大允許工作壓力：           ≤0.1MPa

4．壓升率：                            2Pa/小時(shí)

5．加熱功率：                        根據(jù)用戶工藝要求定制

6．裝料量：                           根據(jù)用戶工藝要求定制